Cu-Al合金単結晶上への結晶性極薄アルミナ膜の成長

吉武 道子; Santanu BERA; 山内 康弘; Weijie SONG

doi:10.1380/jsssj.24.438

表面科学

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24 巻 (2003) 7 号
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Cu-Al合金単結晶上への結晶性極薄アルミナ膜の成長

吉武道子, Santanu BERA, 山内康弘, Weijie SONG

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ジャーナルフリー

2003 年 24 巻 7 号 p. 438-440

DOI https://doi.org/10.1380/jsssj.24.438

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抄録

The well-ordered ultra-thin Al₂O₃ film was grown on a Cu-Al alloy for the first time. The growth was achieved by introducing oxygen at high substrate temperature in a ultra-high vacuum. The film showed (7/√3×7/√3)R30^o LEED structure. The thermodynamics of the growth mechanism was discussed.