表面科学
Online ISSN : 1881-4743
Print ISSN : 0388-5321
ISSN-L : 0388-5321
特集:表面分析時における不可避な損傷の評価
二酸化シリコン薄膜(SiO2)の電子線照射損傷を定量的に評価する
木村 隆西田 憲二田沼 繁夫井上 雅彦鈴木 峰晴橋本 哲三浦 薫
著者情報
ジャーナル フリー

2004 年 25 巻 4 号 p. 212-216

詳細
抄録

In order to determine the extent of electron irradiation damage on silicon dioxide quantitatively, a simple method of measuring the decomposition cross section of SiO2/Si samples from the Si LVV intensity peaks has been proposed. A 100 nm SiO2 film on Si, damaged by the electron irradiation at primary electron energies of 3, 5, 10 and 15 keV was studied. As a result, CDE(critical dose electrons) were able to be determined from the curve fit to Si LVV metallic peaks from the 2-stage exchange equation. The primary electron energy dependence of CDE for SiO2 could be described by Dc(critical dose electrons) ∝ lnEp(primary electron energy).

著者関連情報

この記事はクリエイティブ・コモンズ [表示 - 非営利 4.0 国際]ライセンスの下に提供されています。
https://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0/deed.ja
前の記事 次の記事
feedback
Top