表面科学
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特集:新ヘテロ界面の実現に向けた半導体結晶成長技術の進展
III族窒化物/SiCヘテロ界面を用いたワイドギャップ半導体デバイス
須田 淳三宅 裕樹木本 恒暢
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2010 年 31 巻 12 号 p. 651-656

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抄録

This paper describes group-III nitride (III-N)/SiC heterointerface and its device applications. Heteroepitaxial growth of III-N on SiC opens new opportunity of SiC-based heterojunction devices such as heterojunction bipolar transistors (HBTs). The authors developed growth methods to grow high-quality III-N on SiC by molecular-beam epitaxy. Fabricated GaN/SiC heterojunction exhibited type-II band-lineup. By using AlN/GaN short period superlattice as a quasi AlGaN alloy, the authors successfully controlled the band-lineup to be type-I and demonstrated common-emitter-mode operation of III-N/SiC HBTs.

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