東京大学工学部物理工学科
1989 年 10 巻 10 号 p. 765-775
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一般にPVD, CVD法として知られている薄膜形成法によって薄膜ができるときの核生成, 核成長, エピタキシーなど, 主として初期過程に関する現在までの研究成果を概観し, 現状と将来の発展の動向を示した。
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