表面科学
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電子および光衝撃による脱離過程
安江 常夫一宮 彪彦大谷 俊介
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1990 年 11 巻 8 号 p. 462-468

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抄録

電子衝撃あるいは光衝撃による脱離現象は,古くから真空技術との関連で多くの研究がなされてきた。また近年ではエピタキシャル成長技術にも応用されている。このように物性的,工業的な重要性によって脱離現象に関する興味が高まっている。脱離現象を理解するためにはまずその脱離過程を詳細に知る必要がある。ここでは現在までに知られている脱離機構を紹介すると共に,実験的に脱離過程を研究した2,3の例を述べる。

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