表面科学
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イオンビーム弾性反跳法によるシリコン表面水素吸着の研究
生地 文也尾浦 憲治郎
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1993 年 14 巻 7 号 p. 417-422

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抄録

高エネルギー弾性反跳粒子検出法による表面吸着水素の定量に,低エネルギー弾性反跳イオン分光法が新たに加わり,これまで実験的に測定が困難であったSi表面水素の吸着構造に関する情報が得られることを不した。

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© 社団法人 日本表面科学会
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