表面科学
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In-situ 赤外分光法による有機薄膜成長の評価
中山 俊夫
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1993 年 14 巻 8 号 p. 475-480

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抄録

 有機分子に最も適した評価法である赤外分光 (IR) 法を,有機薄膜成長の in-situ 評価に用いた。芳香族分子の薄膜成長を評価した結果, 膜中の分子配向と共に, 薄膜結晶構造のわずかな変化についても知見が得られ, 有機薄膜の有効な評価手法となりうることがわかった。それと同時に, 膜構造は室温程度の熱エネルギーに対しても敏感であることがわかった。これにより, 膜構造を成長条件に対応づけて評価するためには, 成長条件その場で評価を行うことがきわめて重要であることが明らかになった。

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© 社団法人 日本表面科学会
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