塩素によるSiエッチングの表面反応素過程を水素と酸素の脱離反応と比較しながら,表面吸着構造モデルを用いて説明する。Si原子層エッチングにおいて原子層のエッチング速度だけでなく,原子スケールで平坦なエッチング表面を得るためには,表面ステップからのSi吸着原子の放出とその表面泳動の励起が必要であることを指摘する。