半導体ナノ構造の製作技術は,電子波デバイス,単電子トランジスタなど新しい極微量子化機能素子実現の鍵をにぎっており,電子ビーム,イオンビームやSTMを用いた超微細加工技術の開発が進められている。集束イオンビームはマスクレス加工ができるため,クリーンな界面の形成が必要な半導体ナノ構造の作製に有望な技術の一つである。これまで100nm程度の微細構造の作製ができていたが,最近ではビーム径10nm以下の装置も開発され,これを用いて10nm程度の超微細パターンの形成も実現されており,微細加工の能力も向上している。本稿では,イオン注入,イオンビームミキシング,その場加工など集束イオンビームを用いた加工技術について紹介する。