(株)東芝 材料デバイス研究所
1996 年 17 巻 3 号 p. 148-153
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本解説では,フッ酸系溶液によるSi表面の水素終端化および低溶存酸素濃度超純水の今後のLSIプロセスに対する役割をはじめに概説する。つぎに,低溶存酸素濃度超純水を用いたSi表面処理,および,フッ酸系溶液処理をプロセスに用いる場合の問題点について,筆者の実験結果をまじえて論じる。
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