表面科学
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Cu/Si(111) 成長における水素終端効果
安江 常夫吉井 啓之越川 孝範
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1996 年 17 巻 7 号 p. 401-405

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抄録

The hydrogen mediated growth process of Cu films on Si(111) surfaces is observed by medium energy ion scattering (MEIS), RHEED and AES. At room temperature, the role of hydrogen is not so prominent in the growth process. At high temperatures, however, formation of islands is observed. This indicates that the surface diffusion of Cu atoms is enhanced by the hydrogen termination.

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