High Intensity Radical Beam Source and Thin Film Synthesi

Hisakazu NOZOYE

doi:10.1380/jsssj.18.759

高強度ラジカルビーム源と薄膜合成

野副尚一

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ジャーナルフリー

1997 年 18 巻 12 号 p. 759-765

DOI https://doi.org/10.1380/jsssj.18.759

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発行日: 1997/12/10 受付日: 1997/08/01 J-STAGE公開日: 2009/08/07 受理日: 1997/08/01 早期公開日: - 改訂日: -
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訂正日: 2009/08/07 訂正理由: - 訂正箇所: 引用文献情報訂正内容: Wrong : 1) N. Missert, R. Hammond, J.E. Mooij, V. Matijasevic, P. Rosenthal, T.H. Geballe, A. Kapitulnik, M.R. Beasley, S.S. Ladeerman, C. Lu, E. Garwin and R. Barton: IEEE Trans. 25, 2418 (1989).
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22) F. Imai, K. Kunimori, T. Uchijima and H. Nozoye: Thin Solid Films 228, 158 (1993).
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Right : 1) N. Missert, R. Hammond, J.E. Mooij, V. Matijasevic, P. Rosenthal, T.H. Geballe, A. Kapitulnik, M.R. Beasley, S.S. Ladeerman, C. Lu, E. Garwin and R. Barton: IEEE Trans. 25, 2418 (1989).
2) H. Furukawa, S. Tokunaga and M. Nakao: Physica C 185-189, 2083 (1991).
3) P. O'Keeffe, S. Komuro, S. Den, T. Morikawa and Y. Aoyagi: Jpn. J. Appl. Phys. 30 A, L 834 (1991).
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12) T. Aoki, M. Morita, S. Wickramanayaka, Y. Nakanishi and Y. Hatanaka: Appl. Surf. Sci. 92, 132 (1996).
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14) A. Kikuchi, H. Hoshino and K. Kishino: Jpn. J. Appl. Phys. 33, 688 (1994).
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19) H. Nozoye, N. Nishimiya and H. Sato: Appl. Phys. Lett. 54, 231 (1988).
20) F. Imai, H. Kuramochi, K. Kunimori, T. Uchijima, H. Kondoh, H. Shindo, C. Nishihara, M. Kaise and H. Nozoye: Appl. Surf. Sci. 60/61, 770 (1992).
22) F. Imai, K. Kunimori, T. Uchijima and H. Nozoye: Thin Solid Films 228, 158 (1993).
24) F. Imai, K. Kunimori and H. Nozoye: Appl. Surf. Sci. 75, 326 (1994).
25) F. Imai, K. Kunimori and H. Nozoye: Appl. Phys. Lett. 63, 2638 (1993).
26) F. Imai, K. Kunimori and H. Nozoye: Thin Solid Films, in press.
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43) Y. Yoshida, K. Itoh, Y. Okazaki, T. Mitsuya and S. Mizuguchi: Rev. Sci. Instrum. 66, 1015 (1995).
44) Y. Yoshida, Y. Okazaki, K. Itoh and S. Mizuguchi: Rev. Sci. Instrum. 66, 4166 (1995).
45) Y. Yoshida: Rev. Sci. Instrum. 67, 1005 (1996).
47) F. Imai, K. Kunimori and H. Nozoye: J. Vac. Sci. Technol. A 13, 2508 (1995).
48) G.S. Selwyn: J. Appl. Phys. 60, 2771 (1986).
49) G. Hancock and M.J. Toogood: Appl. Phys. Len. 51, 898 (1987).
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52) R. Clampitt and P.E. Hanley: Supercond Sci. Technol. 1 ,5 (1988).
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58) S. Watanabe and H. Nozoye: Appl. Surf. Sci. 113/114, 618 (1996).

抄録

Plasma assisted deposition methods have been widely used so far to synthesize varieties of thin films. However, charged particles such as electrons and ions, which are inevitably included in plasma, hit surfaces of thin film while the films are being deposited and deteriorate the characteristics of the films. In this article we first describe our results concerning titanium oxides deposition by a “pulsed beam deposition method” and show that active oxygen species are necessary to synthesize completely oxidized titanium oxide thin films. Subsequently, we introduce a high intensity radical beam source which does not emit charged particles and its performance with a review of radical beam sources and methods to determine the intensity of radical beam. Finally, we conclude with some examples of the application of the radical beam source to the synthesis of ceramic films.

責任著者(Corresponding author)

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